Etching method and etching apparatus

WO2014141664 Art A1 18. September 2014

Anmelder: National University Corporation Nagoya University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014141664
Aktenzeichen: EP14763088
Anmeldetag: 7. März 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National University Corporation Nagoya University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National University Corporation Nagoya University

Japanische staatliche Universität mit umfangreicher Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin, unter anderem bekannt für Arbeiten zu LED-Technologie. Trägerin zahlreicher Patente aus Universitätsforschung in Japan.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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