Photocatalyst and photocatalyst dispersion using same, photocatalyst coating, photocatalyst film, and product

WO2014141694 Art A1 18. September 2014

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc., Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014141694
Aktenzeichen: EP14765036
Anmeldetag: 11. März 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: B01J35/02A61L9/00A61L9/01B01D53/86B01J23/30B01J23/652

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc.
Toshiba Materials Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit Verfahrens- & Trenntechnik

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