Charged particle radiation apparatus

WO2014141775 Art A1 18. September 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014141775
Aktenzeichen: EP14762811
Anmeldetag: 5. Februar 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20H01J37/28H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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