Sputtering target for forming magnetic recording film, and carbon raw material used for production of said target

WO2014141789 Art A1 18. September 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014141789
Aktenzeichen: EP14763430
Anmeldetag: 10. Februar 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/15C22C1/10C22C5/04C23C14/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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