Pattern forming method, active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition for organic solvent development used in same, method for producing active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition for organic solvent development, method for manufacturing electronic device, and electronic device
WO2014141876
Art A1
18. September 2014
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014141876
- Aktenzeichen
- EP14763788
- Anmeldetag
- 25. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 18. September 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/26G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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