Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, radiation-sensitive acid generator and compound

WO2014141979 Art A1 18. September 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014141979
Aktenzeichen: EP14763382
Anmeldetag: 5. März 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/19C07D309/04C07D339/08G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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