Method of forming pattern, actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film, process for manufacturing electronic device and electronic device

WO2014142360 Art A1 18. September 2014

Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014142360
Aktenzeichen: EP14764303
Anmeldetag: 14. März 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/10G03F7/004G03F7/038H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI-FILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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