Composition for forming resist protection film for lithography and method for forming pattern of semiconductor device using same

WO2014142494 Art A1 18. September 2014

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014142494
Aktenzeichen: EP14763723
Anmeldetag: 11. März 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11H01L21/027G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dongjin Semichem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von