Nanowire transistor fabrication with hardmask layers

WO2014142950 Art A1 18. September 2014

Anmelder: Intel Corporation, Kim, Seiyon, Kuhn, Kelin, Rachmady, Willy, Kavalieros, Jack 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014142950
Aktenzeichen: EP13877843
Anmeldetag: 15. März 2013
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/336

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Intel Corporation
Kim, Seiyon
Kuhn, Kelin
Rachmady, Willy
Kavalieros, Jack
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

26.633 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von