Target for extreme ultraviolet light source
WO2014143522
Art A1
18. September 2014
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014143522
- Aktenzeichen
- EP14763478
- Anmeldetag
- 20. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 18. September 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G21K5/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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