Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, polymer and method for producing compound

WO2014148241 Art A1 25. September 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014148241
Aktenzeichen: EP14770637
Anmeldetag: 3. März 2014
Veröffentlichung: 25. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F12/22C08F20/26C08F212/14C08F220/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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