Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer storage medium

WO2014148351 Art A1 25. September 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014148351
Aktenzeichen: EP14769008
Anmeldetag: 13. März 2014
Veröffentlichung: 25. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05D1/36B05D3/10B05D5/00B05D7/24G03F7/40B05C11/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von