Wet Strip Process For an Antireflective Coating Layer

WO2014149286 Art A1 25. September 2014

Anmelder: International Business Machines Corporation, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014149286
Aktenzeichen: EP14771029
Anmeldetag: 17. Februar 2014
Veröffentlichung: 25. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C09D9/00C09D5/00C09D183/02G02B1/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: International Business Machines Corporation
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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