Polishing pad cleaning with vacuum apparatus
WO2014149676
Art A1
25. September 2014
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014149676
- Aktenzeichen
- EP14769389
- Anmeldetag
- 4. März 2014
- Veröffentlichung
- 25. September 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B53/017B24B37/04B24B55/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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