Processing system for electromagnetic wave treatment of a substrate at microwave frequencies

WO2014149712 Art A1 25. September 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014149712
Aktenzeichen
EP14768650
Anmeldetag
5. März 2014
Veröffentlichung
25. September 2014
Rechtsraum
WO
IPC
A61N1/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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