High Aspect Ratio Dense Pattern-Programmable Nanostructures Utilizing Metal Assisted Chemical Etching

WO2014152435 Art A1 25. September 2014

Anmelder: The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014152435
Aktenzeichen: EP14769875
Anmeldetag: 14. März 2014
Veröffentlichung: 25. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00C23F1/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University

Rechtsträger der US-amerikanischen Stanford University in Kalifornien, der als Anmelder der zahlreichen Patente aus der Universitätsforschung fungiert. Schwerpunkte liegen unter anderem in Biotechnologie, Informatik und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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