Manufacturing method of low-temperature polysilicon thin film and manufacturing method of thin-film transistor

WO2014153841 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: BOE Technology Group Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014153841
Aktenzeichen: EP13880540
Anmeldetag: 6. Juni 2013
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L21/324

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: BOE Technology Group Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 BOE Technology

Chinesischer Elektronikkonzern mit Sitz in Peking, entwickelt und fertigt Display-Technologien wie LCD- und OLED-Bildschirme für Endgeräte und Industrieanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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