Mikrolithografische Vorrichtung und Verfahren zur Änderung einer Lichtbestrahlungsverteilung

WO2014154229 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014154229
Aktenzeichen: EP13717431
Anmeldetag: 28. März 2013
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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