Radiation collector, radiation source and lithographic apparatus

WO2014154433 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT GmbH 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014154433
Aktenzeichen: EP14706645
Anmeldetag: 26. Februar 2014
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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