Protective film etching method, method for producing template, and template produced using said methods

WO2014156186 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014156186
Aktenzeichen: EP14774685
Anmeldetag: 28. März 2014
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: B29C33/38B29C33/42H01L21/027H05H1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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