Igzo sputtering target, igzo film, and production method for igzo target

WO2014156235 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014156235
Aktenzeichen: EP14773957
Anmeldetag: 20. Januar 2014
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/00C04B35/453

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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