Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, resist-coated mask blank, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device using pattern forming method, and electronic device

WO2014156463 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014156463
Aktenzeichen: EP14772993
Anmeldetag: 27. Februar 2014
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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