Compound, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern formation method, and method for manufacturing electronic device using same, and electronic device

WO2014156524 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014156524
Aktenzeichen: EP14774924
Anmeldetag: 5. März 2014
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C381/12C08F12/30C08F20/38C08K5/36C08L101/00G03F7/038G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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