Composition, method for producing substrate having pattern formed thereon, film and method for producing same, and compound

WO2014156910 Art A1 2. Oktober 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014156910
Aktenzeichen: EP14774029
Anmeldetag: 19. März 2014
Veröffentlichung: 2. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08G65/40C07C255/51C07D493/10G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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