Vapor deposition mask, vapor deposition mask precursor, vapor deposition mask manufacturing method, and organic semiconductor element manufacturing method
WO2014167989
Art A1
16. Oktober 2014
Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014167989
- Aktenzeichen
- EP14782596
- Anmeldetag
- 24. März 2014
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/04B23K26/00H01L51/50H05B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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