Oxide sputtering target and method for producing same, and protective film for optical recording media

WO2014168073 Art A1 16. Oktober 2014

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014168073
Aktenzeichen: EP14782087
Anmeldetag: 3. April 2014
Veröffentlichung: 16. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/08G11B7/254G11B7/257G11B7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von