Resist removing liquid, resist removal method using same and method for producing photomask

WO2014171352 Art A1 23. Oktober 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014171352
Aktenzeichen: EP14784883
Anmeldetag: 4. April 2014
Veröffentlichung: 23. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24G03F7/42H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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