Composition To Be Used in Self-Assembly Lithography Process

WO2014171446 Art A1 23. Oktober 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014171446
Aktenzeichen: EP14785910
Anmeldetag: 15. April 2014
Veröffentlichung: 23. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C08G77/04G03F7/004G03F7/039G03F7/075G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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