Method for forming pattern, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film, process for producing electronic device, and electronic device

WO2014171449 Art A1 23. Oktober 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014171449
Aktenzeichen: EP14785094
Anmeldetag: 15. April 2014
Veröffentlichung: 23. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/10C09K3/00G03F7/004G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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