Method for manufacturing compact having plating film and compact having plating film

WO2014175008 Art A1 30. Oktober 2014

Anmelder: Hitachi Maxell, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014175008
Aktenzeichen: EP14788675
Anmeldetag: 31. März 2014
Veröffentlichung: 30. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/16B29C45/17

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Maxell, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Maxell

Hitachi Maxell war ein japanischer Hersteller von Batterien, Speichermedien und Unterhaltungselektronik innerhalb der Hitachi-Gruppe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Nachrichtentechnik und Telekommunikation sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Akustik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2000 bis 2016.

626 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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