Charged particle radiation device and specimen preparation method using said device

WO2014175074 Art A1 30. Oktober 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014175074
Aktenzeichen: EP14788826
Anmeldetag: 11. April 2014
Veröffentlichung: 30. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G01N1/28H01J37/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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