Electron gun, charged particle gun, and charged particle beam apparatus using electron gun and charged particle gun

WO2014175087 Art A1 30. Oktober 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014175087
Aktenzeichen: EP14788336
Anmeldetag: 14. April 2014
Veröffentlichung: 30. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/073H01J27/26H01J37/06H01J37/063H01J37/08H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von