Photosensitive element, photosensitive element roll, method for producing resist pattern, and electronic component

WO2014175274 Art A1 30. Oktober 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014175274
Aktenzeichen: EP14787920
Anmeldetag: 22. April 2014
Veröffentlichung: 30. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/004H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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