Photosensitive resin composition, cured product and method for producing same, method for producing resin pattern, cured film, liquid crystal display device, and organic el display device

WO2014175316 Art A1 30. Oktober 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014175316
Aktenzeichen: EP14788905
Anmeldetag: 23. April 2014
Veröffentlichung: 30. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G02F1/1333G03F7/039H01L51/50H05B33/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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