Sputtering target for magnetic recording film, and raw carbon material for use in producing same

WO2014175392 Art A1 30. Oktober 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014175392
Aktenzeichen: EP14787898
Anmeldetag: 24. April 2014
Veröffentlichung: 30. Oktober 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/14G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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