Verfahren zum Herstellen einer Elektrisch Isolierenden Schicht

WO2014177325 Art A1 6. November 2014

Anmelder: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung E.V., Siegert TFT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014177325
Aktenzeichen: EP14715860
Anmeldetag: 26. März 2014
Veröffentlichung: 6. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01G4/08H01G4/10C23C14/06C23C14/08C23C14/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung E.V.
Siegert TFT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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