Cleaning method for exposed copper substrate and cleaning system

WO2014178289 Art A1 6. November 2014

Anmelder: Organo Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014178289
Aktenzeichen: EP14791681
Anmeldetag: 17. April 2014
Veröffentlichung: 6. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B01J31/08C02F1/20C02F1/32C02F1/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Organo Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Organo

Organo ist ein japanisches Unternehmen für Wasseraufbereitungs- und Reinstwassertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Mess- und Prüftechnik. Anmeldungen laufen durchgehend seit dem Jahr 2000.

407 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von