Sintered body, and sputtering target for magnetic recording film formation use which comprises said sintered body

WO2014178310 Art A1 6. November 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014178310
Aktenzeichen: EP14792150
Anmeldetag: 23. April 2014
Veröffentlichung: 6. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C22C32/00B22F3/11C22C5/04C22C19/07C22C33/02C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von