Photosensitive resin composition, method for forming pattern, and liquid crystal display device using same

WO2014178550 Art A1 6. November 2014

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014178550
Aktenzeichen: EP14791920
Anmeldetag: 14. April 2014
Veröffentlichung: 6. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/032G03F7/028G02F1/13G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Dongjin Semichem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

456 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von