Silicon epitaxial wafer and method for manufacturing silicon epitaxial wafer

WO2014181496 Art A1 13. November 2014

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014181496
Aktenzeichen: EP14794718
Anmeldetag: 28. März 2014
Veröffentlichung: 13. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20C30B29/06H01L21/02H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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