Superimposition measurement device, superimposition measurement method, and superimposition measurement system

WO2014181577 Art A1 13. November 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014181577
Aktenzeichen: EP14794039
Anmeldetag: 10. März 2014
Veröffentlichung: 13. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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