Multi-layer amorphous silicon structure with improved poly-silicon quality after excimer laser anneal

WO2014182433 Art A1 13. November 2014

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014182433
Aktenzeichen: EP14795239
Anmeldetag: 22. April 2014
Veröffentlichung: 13. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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