Sputtering target for forming magnetic thin film

WO2014185266 Art A1 20. November 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014185266
Aktenzeichen: EP14798548
Anmeldetag: 30. April 2014
Veröffentlichung: 20. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C5/04C22C30/00G11B5/65G11B5/851B22F3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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