Pattern formation method, active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in same, electronic device using same, and production method for electronic device

WO2014185347 Art A1 20. November 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014185347
Aktenzeichen: EP14797493
Anmeldetag: 9. Mai 2014
Veröffentlichung: 20. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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