Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2014185433 Art A1 20. November 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014185433
Aktenzeichen: EP14798062
Anmeldetag: 13. Mai 2014
Veröffentlichung: 20. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F220/28G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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