Method of controlling a radiation source and lithographic apparatus comprising the radiation source

WO2014187619 Art A1 27. November 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014187619
Aktenzeichen: EP14718071
Anmeldetag: 16. April 2014
Veröffentlichung: 27. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01S3/225H01S3/104H01S3/0975

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von