Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, acid diffusion control agent, compound and method for producing compound

WO2014188762 Art A1 27. November 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014188762
Aktenzeichen: EP14801416
Anmeldetag: 11. März 2014
Veröffentlichung: 27. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C51/02C07C59/185C07C59/205C07C59/21C07C67/30C07C69/36C07C327/20C07C381/12C07D307/77C07D313/04C07D317/46C07D317/72C07D327/04C08F212/14C08F220/10G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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