Electrolytic treatment method and electrolytic treatment device
WO2014188898
Art A1
27. November 2014
Anmelder: Tokyo Electron Limited, National University Corporation Kumamoto University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014188898
- Aktenzeichen
- EP14800350
- Anmeldetag
- 12. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 27. November 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25D17/10C02F1/46C02F1/461
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
National University Corporation Kumamoto University - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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