Substrate processing based on resistivity measurements

WO2014189790 Art A1 27. November 2014

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014189790
Aktenzeichen: EP14801127
Anmeldetag: 16. Mai 2014
Veröffentlichung: 27. November 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/18H01L21/67H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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