Method of simulating formation of lithography features by self-assembly of block copolymers

WO2014191163 Art A1 4. Dezember 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014191163
Aktenzeichen: EP14724052
Anmeldetag: 5. Mai 2014
Veröffentlichung: 4. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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